光學模壓模具退膜——離子刻蝕機

RIE(Reactive Ion Etching)離子刻蝕機：系列設備為真空等離子刻蝕機屬于電子工業的干法清洗，工藝氣體在電子區域形成等離子體，并產生電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面，等離子體在工件表面發生反應，從而實現清潔、改性、刻蝕的目的，將污染物轉換為氣相，并通過真空泵用連續氣體流將其排出。

圖一：刻蝕前后對比圖

特點及優勢：

  ?  可定制刻蝕范圍φ100-800mm, 支持單源或多源組合；

  ?  刻蝕溫度低于80℃，很好的兼容熱敏感材料；

  ?  自由調節的刻蝕距離及速率，滿足敏感材料應用需求。

  ?  等離子體密度高，刻蝕清洗效果好，具有良好的均勻性；

  ?  采用通用接口尺寸，模塊化設計、互換性強，維護方便；

  ?  交鑰匙設備，純源公司提供整套解決方案，設備交接后即可投產；

應用領域：

  ?  可刻蝕材料:金屬，非金屬，合金，半導體 (單晶硅、非晶硅、多硅，SO1)，金屬氧化物，氮化物，碳化物，陶瓷，聚合物，超導材料等:>可褪碳基薄膜，可作為DLC/Ta-C薄膜的褪膜機使用；

  ?  可應用在:3C消費電子，半導體，光學，交通工具，刀具模具，家電，新能源，醫療，軍 工 航天，科研等行業。

安徽純源鍍膜科技有限公司（簡稱純源鍍膜），是由新加坡歸國創業團隊于2014年創立的高科技公司，主要從事真空納米鍍膜設備的設計、研發、加工制造、銷售、售后服務和鍍膜生產服務。

公司目前擁有設計、研發、工藝、市場和生產等各方面的人才，在純離子鍍膜(Pure Ion Coating，簡稱PIC)、化學氣相沉積（CVD）、磁控濺射、多弧離子鍍、離子束刻蝕清洗等真空鍍膜應用領域都擁有國內外先進技術。

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