高致密金屬膜&低溫氮/碳化合物膜真空鍍膜

金屬膜層可以改善材料的性能，薄的金屬膜可以改變電學和裝飾性能，提高材料的磨損抗力、化學抗力、硬度和化學性能。

金屬Cr層具有硬度高、耐磨、反光性能好、化學穩定性好等特點。

通過真空離子鍍膜制備的金屬膜層相比蒸鍍、濺鍍具有如下幾個優點：

1.附著力好，膜層不易脫落；

2.繞射性能好，可以將待鍍物品所有表面均勻鍍上薄膜；

3.膜層質量高，組織致密

金屬Cr層具有硬度高、耐磨、反光性能好、化學穩定性好等特點。

金屬Ti層具有高的熱強性、持久強度、良好耐腐蝕性、親生物性、抗阻尼性能，無磁無毒。

金屬Cu層具有延展性、導熱性、導電性高、電阻率低等特點。

金屬Ni層具有較高的硬度、耐腐蝕性高、磁性、裝飾性。

金屬Ag層具有極好導電性、導熱性、裝飾性、反光性、提高材料焊接性能。

金屬Al層具有極好的反光性、導電性、導熱性、延展性、耐腐蝕性、抗磁化性、阻燃性、裝飾性，且毒副作用小。

氧化物膜層：

SiO2涂層具有無毒、熱穩定性好、機械穩定性好和結構易于調整等優點。疏油疏水，甚至可以抵抗一些有機溶劑。 

Al2O3是鋁的穩定氧化物，Al2O3薄膜是一種常用的功能薄膜材料，由于具有高的透射比、高化學穩定性、高絕緣性、良好的耐高溫耐腐蝕等優良的物理化學性質。

Cr2O3具有高化學穩定性、耐腐蝕、極好的親水性。

TiO2有高折射率、高介電常數、良好的半導體性能和化學穩定性還具有良好的血液相容性。

ZrO2有高熔點、高電阻率、高折射率和低熱膨脹系數等特性。

氮化物膜層：

CrN具有優異耐磨性、抗氧化、抗腐蝕性、高光潔度、低化學親和力、提高產品脫模性能

TiN具有硬度高、摩擦系數低、良好化學惰性良好的生物相容性、提升材料抗磨性等特性。

TiAlN涂層一般稱之為“中鋁”，它擁有好的耐高溫，耐腐蝕，高硬度，且摩擦系數較低。

AlTiN涂層一般稱之為“高鋁”，擁有優異的耐高溫，耐腐蝕，高硬度。

TiSiN涂層為TiN和Si3N4的納米晶復合結構，具有極高的抗熱性能，獨特的外觀，超長的服役壽命，兼具高韌性和高硬度。

CrAlN擁有良好的抗沖擊、防腐蝕性、耐磨性、耐高溫性能。

應用領域：合金及不銹鋼加工刀具、硬質合金及高速鋼滾齒刀、各類沖壓、擠壓、注塑模具及其他涉及耐磨、耐沖擊、耐腐蝕領域，適合用于干式切削。