磁控濺射鍍膜設備系列

    磁控濺射鍍膜設備主要是采用本公司成熟的專利技術：高能離子束清洗+磁控濺射源。設備采用全自動化控制，模塊化集成優化，設備功率高、穩定性能好、操作簡單且維護方便。為滿足不同的鍍膜需求腔室內可設計配置平面圓形靶、條形靶和圓柱靶等多種靶材，可獲得致密度高、均勻性能好的多層復合膜，包括各種金屬、半導體、鐵磁材料以及絕緣的氧化物、陶瓷薄膜等。適合研發及批量鍍膜服務。

主要應用：

>金屬、非金屬及陶瓷氧化物的各類膜層和復合膜層；

>太陽能電池、液晶顯示;

>磁光信息存儲、鐵磁材料；

>硬質耐磨、材料保護和防腐等各個領域。

產品特點：

>靈活性高、應用范圍廣；

>專利技術、工藝成熟;

>膜層性能優越：硬度高、摩擦系數低;

>多種膜層系列、可大批量高效率生產等。