PVD真空鍍膜與噴涂、水電鍍的區別

• PVD-物理氣相沉積：

  1、原理：指利用物理過程實現物質轉移，將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程。

     2、基本方法：真空蒸鍍、濺鍍、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍）。

     3、離子鍍膜技術具有：鍍膜層致密均勻、附著力強、鍍性好、沉積速度快、處理溫度低、可鍍材料廣泛等特點。表面細膩光滑并富有金屬光澤顏色均勻一致，大幅度提高工件的外觀裝飾性能。

     4、純源鍍膜PVD鍍膜產品：

• 噴涂

  1、原理：噴涂是利用壓縮空氣在噴槍嘴產生的負壓將涂料容器中的涂料從涂料噴嘴噴出，并迅即進入高速的壓縮空氣流，使涂料液氣相急劇擴散，被分散為霧狀微粒射向被涂物，均勻涂布在表面。

  2、工藝特點：適用于所有材質。不需要做導電層等前期處理。成本相對較低，簡單易操作。噴涂主要起裝飾作用，功能性相對較弱。

• 水電鍍

  1、原理：水電鍍是在水溶液里進行的電鍍處理，通過電解作用使金屬或其他材料表面附著一層金屬膜。

  2、工藝特點：工藝流程相對簡單。對環境和設備的要求較低。鍍膜后導電性顯著增強。鍍膜顏色相對單調，但常用的顏色如亞銀色、灰銀、金色等仍具有一定的裝飾性。

硬度較高，但容易發黃、腐蝕，不耐磨。為傳統工藝，存在環境污染問題，受國家政策影響限制。

  3、應用范圍：主要適用于金屬材質，對于塑膠材料，水電鍍通常只能對ABS塑膠和少量的ABS+PC塑膠材料進行電鍍加工。

注明：以上數據來源于安徽純源鍍膜科技有限公司- 材料實驗室檢測數據