IONBEAM離子束清洗源
更新時間：2024-11-21 09:00:00
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IONBEAM離子束清洗源
一、特征：結構簡單，束流密度大，離子能量可控，在大面積改性處理方面具有獨特的優勢
二、離子束清洗源是在一條環形（長方形或圓形）窄縫中施加強磁場，于真空腔室內在陽極作用下使工藝氣體離化產生高能氬待離子體，并轟擊被鍍工件表面；它不僅可以消除工件表面粘附物，還能“刻蝕”工件表面氧化物，從而得到“新鮮”的工件表面，極大地提高工件表面薄膜的結合力，并提高膜層純度。離子束清洗源可做規格較大，陽極層離子源電流也較大，但其離子流方向性強，且能級分布很寬，適用于大型工件。陽極層離子源還可以應用于離子束輔助沉積，工件表面刻蝕和表面清洗等領域。
注明：以上數據來源于安徽純源鍍膜科技有限公司-先進材料實驗室-檢測結果
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