CVD鍍膜機—PECVD鍍膜機

       PECVD連續式磁控濺射鍍膜設備生產線：是采用多個真空腔室組成的連續鍍膜成產線模式，各階段的真空腔室可按要求定制定數。制備在低壓和升溫的情況下，等離子子發生器直接裝在鍍膜板中間發生反應。采用射頻PECVD化學氣相沉積技術，沉積速率快，成膜質量好，可鍍膜氧化物薄膜、氮化物薄膜、無定型硅薄膜和碳化硅薄膜等。

主要特點

1、設備可由：裝載工作臺+前處理室+離子束清洗室+預鍍膜室（緩沖室）+磁控濺射鍍膜室+平移室+全自動控制系統等組成；全SUS304不銹鋼材質制成。隱藏式雙層冷卻水套設計；

2、每一階段的進程都可以設計成單個真空腔室或多個真空腔室；

3、傳動系統：流軸傳動，變頻可調，感應式室門開啟系統；

4、每一階段的工序進程之間腔室都采用先進的插板閥進行腔室隔斷，可以實現有效隔斷，穩定工藝氣體；

5、裝載工作臺在裝載的設備生產線所有腔室同步進行抽真空，以達到工作氣壓要求狀態。極大縮短了前處理工作時間；

6、生產線采用了均勻進氣管結構設計，氣流注入均勻平緩；

7、電氣控制：生產線采用PLC全過程控制，快速的生產節拍，配備工業計算機顯示系統，控制屏采用分屏監控模式以達到每腔室每階段的實時數據記錄分析；

8、人機對話：控制系統能實現人、機對話，及時對生產過程進行必要干預。運行過程有報警提示和故障顯示，故障顯示能提示操作人員正確的操作和排故。

• 技術優勢

1、實現薄膜沉積工藝的低溫化。工藝控制靈活、安全、便捷，在工藝程序上可操作性更大；在溫控、功率和氣壓控制方面都是全自動控制；

2、全自動控制系統更安全、便捷；節省能源，降低成本；

3、提高產能，延長基片壽命；

4、沉積速率快，成膜質量好；

5、安全性能更好，穩定性高，工藝穩定性好，膜層均勻性更好；

6、連續式磁控濺射鍍膜設備生產線主要用于表面鍍制高質量、高性能金屬膜、電磁屏蔽膜、反應膜、復合膜、透明導電膜等膜層；

7、設備采用全自動控制系統，能控制工藝溫度、膜層厚度，能對微孔內壁鍍膜；

8、設備對于環氧樹脂等電路板基體及其導通孔上沉積金屬膜膜層可進行連續式生產線鍍膜。

注明：以上數據來源于安徽純源鍍膜科技有限公司-先進材料實驗室-檢測結果