PVD真空鍍膜設備 電磁過濾/電磁掃描系統 納米涂層制備

純離子核心技術

• 電磁過濾系統

可將離子源產生的等離子體中的中性粒子、大型離子團等接近過濾干凈；經過磁過濾后沉積粒子的離化率接近；達到了“聚離子束”的目的，配合電磁掃描系統。

• 電磁掃描系統

配合電磁過濾系統，將純離子束流，按照程序軟件設定，控制改變束流方向，實現大范圍的均勻的薄膜沉積；膜層均勻性可以控制在3%—5%，而傳統鍍膜技術的均勻性只有10%左右。

注明：以上數據來源于安徽純源鍍膜科技有限公司- 材料實驗室檢測數據